靶材廠家告訴你靶標的制作方法

　　靶材廠家告訴你靶標的制作方法

　　靶材廠家告訴你靶材是電子信息產業中經常使用的一種材料。雖然它用途廣泛，但普通人對這種材料知之甚少。許多人對目標的制作方法感到好奇?它是如何分類的?接下來，小編將介紹目標材料的生產方法和分類應用

　　靶材廠家告訴你靶標制作方法：

　　1.鑄造方法

　　靶材廠家告訴你鑄造方法是將合金原材料按一定的組成比熔化，然后將熔煉后得到的合金溶液倒入模具中形成鑄錠，加工后形成靶材。鑄造方法通常需要在真空中熔化和鑄造。常用的鑄造方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉。其優點是所制備的靶材雜質含量小，密度高，可大規模生產;缺點是當熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬熔煉時，用常規熔煉方法很難制備成分均勻的合金靶材。靶材的制備需要低雜質含量和高純度的材料。靶材的純度會影響薄膜的均勻性。純度越高，所制靶材的耐腐蝕性、電學和光學性能越好。然而，不同用途的靶材對純度有不同的要求。例如，工業中使用的靶材對純度的要求較低;然而，半導體、顯示器等領域的目標材料對純度有很高的要求。

　　2.粉末冶金

　　靶材廠家告訴你粉末冶金法是將具有一定組成比的合金原料熔化，然后將熔煉后獲得的合金溶液鑄成錠，壓碎鑄錠，靜態成型粉碎粉末，然后在高溫下燒結形成靶材。用這種方法制作的靶材具有成分均勻的優點;缺點是密度低，雜質含量高。常用的粉末冶金工業包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓。

　　靶材廠家告訴你材料的分類和應用

　　1.半導體相關目標：

　　電極和布線膜：鋁靶、銅靶、金靶、銀靶、鈀靶、鉑靶等。

　　儲存電極膜：鉬靶、鎢靶、鈦靶等。

　　粘附膜：鎢靶、鈦靶等。

　　電容器絕緣膜：鋯鈦酸鉛靶材等。

　　2.磁記錄目標：

　　垂直磁記錄膜：鈷鉻合金靶材等。

　　硬盤薄膜：鈷鉻鉭合金靶材、鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

　　薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶、鈷鉻鋯合金靶等。

　　人造晶體薄膜：鈷鉑合金靶材、鈷鈀合金靶材等。

　　3.光記錄目標：

　　相變光盤記錄膜：碲化物靶材、硒化銻靶材、鍺銻碲合金靶材、碲鍺合金靶料等。

　　磁光盤記錄膜：鏑鐵鈷合金靶、鋱鏑鐵合金靶、氧化鎂靶、氮化硅靶等。

　　光盤反光膜：鋁靶、鋁鈦合金靶、鋁鉻合金靶、金靶、金合金靶等。

　　光盤保護膜：氮化硅靶、氧化硅靶、硫化鋅靶等。