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北京坤星元科技有限公司成立于2014年,是一家專業生產以多材質、高純度PVD濺射靶材、金屬粉末和蒸發鍍膜材料的專業技術創新企業。公司本著專業、優質、高效的經營理念,經過多年來逐步發展成為一家極具競爭力和創造力的新型公司,憑借自身優質產品,專業的服務以及良好的商業信譽,成為眾多企業及科研單位指定的材料提供商。
公司廠區環境優美,生產車間環境完全按照ISO質量體系標準條件建設,公司目前擁有多臺/套先進自動化生產機器、各類型檢驗檢測儀器設備,可根據您的需求提供各種尺寸、不同純度金屬、合金靶材以及金屬粉末,年生產能力可達到100+噸靶材加工。公司始終堅持以優良的服務質量,嚴格、有效的質量管理體系,全方位保證我司產品優質、安全,達到客戶滿意度,我們產品遠銷至德國、日本、臺灣等國家和地區以及包括國內科研軍工、新科技公司等多家企事業單位。
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產品中心
鉻靶 Chromium target
公司生產的鉻靶材采用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產,產品包括矩形靶、圓弧靶、環形靶和大長徑比整體成形管靶等類型,具有純度和密度可控、晶粒細小均勻、使用壽命長等優點。Ourchromiumtargetincludingrectangulartarget,arctarget,ringtargetandlargeaspectratiointegralformingtubetargetismanufacturedbyhotisostaticpressingtechnologyandhastheadvantagesofcontrollablepurityanddensity,fineanduniformgrainsizeandlongservicelife.?鉻靶Chromiumtarget性能Productperformance純度/%Purity?????99.599.95密度/g/cm3Density??????≥7.12≥7.12晶粒度/μmGrainsize??????≤100≤100金屬雜質總和/ppmTotalcontentofmetallicimpurities???????≤5000≤500熱導率/W/m.KThermalconductivity??????60100熱膨脹系數/1/KCoefficientofthermalexpansion????????8×10-68×10-6規格尺寸/mmSize平面靶Planartarget≤1500×500≤1500×500旋轉靶Rotatingtarget熱等靜壓整體成形IntegralformingbyHIP長度Length≤2000厚度Thickness≤15熱等靜壓整體成形IntegralformingbyHIP長度Length≤2000厚度Thickness≤152N5??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤1500≤1200≤1500≤200≤50≤1400≤300測試值(Testvalues)98030060062501200200??2N8??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤800≤300≤400≤200≤50≤1000≤100測試值(Testvalues)7407892845034030??3N??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤500≤100≤150≤150≤30≤500≤100測試值(Testvalues)2904780902845050?3N5??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)銅(Cu)鎳(Ni)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤100≤50≤50≤10≤50≤50≤30≤150≤80測試值(Testvalues)504540710242713730?附上鉻矩形靶、圓弧靶和環形靶照片
鉻管靶 Chromium tube target
鉻管靶可加工成熱等靜壓(HIP)整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶,兩種鉻管靶相比,熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質量好等優點,缺點成本較高。Comparedwiththesprayingchromiumtubetarget,theintegralformingchromiumtubetargetbyHIPhastheadvantagesoflowoxygencontent,highdensity,uniformandcompactcoatingandsoon.?性能Productperformance噴涂鉻管靶材Sprayingchromiumtubetarget熱等靜壓整體成形鉻管靶材IntegralformingchromiumtubetargetbyHIP氧含量/ppmOxygencontent≤500080-1500鍍膜均勻性Depositionuniformity1.????整管軸向致密度相差較大2.????整爐上中下L、A、B值相差較大3.????無法保證產品膜層的一致性1.????Thedensityofthetubetargetalongtheaxialisdifferent.2.????ThevalueofL,AandBisdifferentinthewholefurnace.3.????Theconsistencyoftheproductfilmcannotbeguaranteed1.????整管均勻性高2.????密度接近于純金屬熱擠壓密度,管材通體密度一致3.????無松散區、無暗區4.????PVD膜層的厚度及顏色的一致性好5.????整爐上中下L、A、B值統一性好1.????Highuniformityofthewholetube2.????Thedensityofthewholetubetargetisclosetohotextrusiondensityandisconsistent3.????Nolooseareaanddarkarea4.????TheconsistencyofthethicknessandcolorofthePVDfilmisgood4.????ThevaluesofL,AandBinthewholefurnacearegood.5.????ThevalueofL,AandBisconsistentinthewholefurnace.鍍膜電流密度Depositioncurrentdensity無法實現大電流長時間工作Cannotworkforalongtimeatlargecurrent大功率長時間穩定工作Cansteadilyworkforalongtimeunderhighpower??附上鉻管靶照片(1張照片)
氧化鈮靶 Niobium oxide target
公司生產的氧化鈮靶材采用先進的真空熱壓、熱等靜壓和熱噴涂工藝生產,產品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。Ourniobiumoxidetargetincludingrectangulartarget,arctargetandtubetargetismanufacturedbyhotisostaticpressing,hotpressing,andthermalsprayingtechnology.OurniobiumoxidetargetbyHIPhasbeenappliedforChineseinventionpatentwithindependentintellectualpropertyrights.ThepatentnumberisCN105734506A.??氧化鈮靶Niobiumoxidetarget性能Productperformance化學成分/at%CompositionNb2Ox,x=4.5~4.8純度/%Purity99.99密度/g/cm3Density≥4.5晶粒度/μmGrainsize≤5金屬雜質總和/ppmTotalcontentofmetallicimpurities≤100電阻率/Ω.cmResistivity5×10-4規格尺寸/mmSize平面靶Planartarget熱等靜壓/熱壓,≤500×250Hotisostaticpressing/Hotpressing旋轉靶Rotatingtarget熱噴涂成形thermalspraying長度Length≤4000厚度Thickness≤10
六硼化鑭 Lanthanum boride
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靶材如何應用于微電子領域?靶材廠家為你介紹!

靶材的制造工藝是怎樣?靶材廠家為你介紹!

靶材廠家一文介紹靶材

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